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設備型號：KMM-200
發(fā)布時(shí)間：2024-06-23
KMM-200正置高分辨率高精度金相顯微鏡采用平場(chǎng)消色差光學(xué)系統和落射式柯拉照明系統，同時(shí)在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線(xiàn)，從而使成像更清晰、視場(chǎng)襯度更好。
KMM-200M正置高分辨率高精度金相顯微鏡
■采用平場(chǎng)消色差光學(xué)系統和落射式柯拉照明系統，同時(shí)在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線(xiàn)，從而使成像更清晰、視場(chǎng)襯度更好。
■提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡(jiǎn)便。
■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學(xué)設計，結構勻稱(chēng)，實(shí)現鏡體擴展積木化。
■工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。
■廣泛應用于各類(lèi)半導體硅晶片檢測、材料科學(xué)研究、地質(zhì)礦物分析及精密工程等學(xué)科領(lǐng)域。
KMM-200正置高分辨率高精度金相顯微鏡技術(shù)規格
光學(xué)系統 | 有限遠色差校正光學(xué)系統 |
觀(guān)察筒 | 鉸鏈式雙目，30°傾斜，360°旋轉，瞳距調節范圍：54-75mm，雙邊±5屈光度可調； 鉸鏈式三目，固定式分光比，雙目:三目=80%:20% |
目鏡 | PL10X高眼點(diǎn)平場(chǎng)目鏡，線(xiàn)視場(chǎng):18mm |
物鏡 | 長(cháng)工作距平場(chǎng)消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X |
轉換器 | 內定位四孔轉換器 內定位五孔轉換器 |
調焦機構 | 粗微調同軸，帶機械上限位和松緊調節裝置,粗調行程28mm，微調精度0.002mm |
載物臺 | 雙層機械移動(dòng)平臺,附設180X145mm平板平臺,移動(dòng)范圍：76mmX50mm |
照明系統 | 反射式柯拉照明，自適應寬電壓90V-24V，6V/30W鹵素燈，光強連續可調,帶可變孔徑光闌與視場(chǎng)光闌,視場(chǎng)光闌中心可調 |
攝影裝置 | 攝影接筒（帶PK卡口），3.2X攝影目鏡 |
攝像裝置 | 0.35X/0.5X/1.0X,C型攝像接筒 |
其他可選功能 | 簡(jiǎn)易偏光 6V30W透射照明系統 |
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021-69003627
