金相試樣拋光機使用方法

發(fā)布日期：2020-03-06      瀏覽次數：2359

試樣拋光：

試樣拋光的目的是為了除去試樣磨面上留下的磨痕，得到似鏡面的表面，為顯示組織做好準備。理想的拋光面應是平滑光亮、無(wú)劃痕、無(wú)浮雕、無(wú)塑性變形層和不脫落非金屬夾雜物。

金相試樣的拋光方法按其作用本質(zhì)劃分，常見(jiàn)的有一下幾種：

試樣拋光 ：機械拋光、化學(xué)拋光、電解拋光、綜合拋光（機械化學(xué)拋光、機械電解拋光）

金相試樣終顯示前的品質(zhì)是由拋光品質(zhì)決定的，而拋光前試樣磨面表面磨制及產(chǎn)生變形層的情況又直接影響拋光品質(zhì)。因此在進(jìn)行拋光工作以前，必須對磨面進(jìn)行檢查，如果在磨面上還留下有較深磨痕，即使這些深磨痕為數極少，在拋光過(guò)程中也是難于去除的。在這樣的情況下，應重新對試樣磨光，使在磨面上只留下單一方向的均勻的細磨痕及較淺的變形層時(shí)，才能進(jìn)行拋光。